|
ПОКРЫТИЯ НА ЛОПАТКАХ ТВД
(1) Конденсированное покрытие СДП-2
(состоит из двух металлографических зон: внешней зоны,
состоящей из b-фазы (NiAl); внутренней зоны, состоящей из
g'-фазы (Ni3Al) дополнительно легированной Y в
твёрдом растворе g-фазы (NiCr) и карбидов)
формируется на
поликристаллическом сплаве ЖС6У на установке МАП-1 вакуумно-дуговым ионно-плазменным
методом. Предварительная ионная очистка ионами материала катода (400-500Эв) под потенциалом
смещения 180-250В продолжительностью 8-10 минут максимум.
Ток дуги 750А.
Скорость конденсации на вращающихся деталях 25мкм/час, на неподвижных – 70мкм/час.
Толщина плёнки 50-70 мкм.
Вакуумный отжиг при давлении 0,1Па и температуре 1010±10°С продолжительностью 4 часа
(2) Комплексное диффузионное покрытие NiCr+CrAlY
из порошковой смеси (хромалитирование) формируется на поликристаллическом сплаве ЖС6У.
Состав смеси: 4%-Al, 40%-Cr, 5%-лигатуры NiY,
0,4%-хлорида аммония NH4Cl, 51%-Al2O3.
Расход смеси: 40 кг/садку.
Температура процесса вакуумного отжига при 0,1Па:
первая стадия - 1000°С в течении 4 часов;
вторая стадия - 1210°С в течении 60-90 минут
(3) Диффузионное покрытие ВСДП-11
(состоит из двух металлографических зон: внешней зоны,
состоящей из b-фазы (NiAl), дополнительно легированной Si, Y и
частично элементами, входящими в сплав-основу; внутренней зоны, имеющей гетерогенное строение,
состоящей из b-фазы (NiAl), g'-фазы (Ni3Al),
карбидов)
формируется на сплаве направленной кристаллизации ЖС26ВИ и монокристаллическом
сплаве ЖС32ВИ на установке МАП-1.
Химический состав катода: Алюминий-основа, 5%-кремния, 1,5%-иттрия.
Ионная очистка ионами материала катода под потенциалом смещения 180-250В
продолжительностью 6 минут максимум.
Материал катода - алюминиевый сплав, легированный кремнием и иттрием.
Ток дуги - 500А.
Толщина 20-40мкм наносится на всё перо.
Продолжительность напыления 40+10 минут.
Толщина 10-20мкм дополнительно наносится на входную кромку через щелевую маску
(7,5мм: в сторону корыта – 3,5мм, в сторону спинки – 4мм).
Вакуумный отжиг при давлении 0,1Па и температуре 1050±10°С продолжительностью 3 часа
(4) Циркуляционное диффузионное алитирование из газовой фазы формируется на сплаве
направленной кристаллизации ЖС26ВИ и монокристаллическом сплаве ЖС32ВИ.
Температура процесса - 1000°С в течении 2 часа 30 минут.
Скорость роста 15-20 мкм/час.
Толщина покрытия 20-38мкм.
Равнотолщинность покрытия 15% на внутренней и наружной поверхностях.
Расход смеси: 0,4кг на садку
|
